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芯源微表示，涂胶显影机的在Iline、KrF、向ArF等技术升级的过程中，主要技术难点在于涂胶显影机结构复杂，运行部件多。研发升级在技术上有很大的跨度，主要体现在颗粒污染物的控制方面，例如烘烤精度、多腔体的一致性及均匀性、不同光刻胶的涂胶显影工艺精细化控制，以及设备整体颗粒污染物控制等。

据悉，芯源微目前订单比较饱满，排产工时较往年有大幅增加。芯源微指出，公司现有的厂区已经是满负荷运转，同时新厂房也在建设当中，按照计划将于2021年4季度投入使用，届时对公司产能提升会起到非常大的作用。

关于进口零部件的采购，芯源微相关人士表示，芯源微目前不存在卡脖子的情况。虽然由于国内国际市场需求旺盛导致了采购周期加长，但是芯源微根据订单情况已经提前采取应对措施，进行了充足的备库，能保证客户订单的正常生产、排产及交付。
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(编辑:化隆电工培训学校)