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　　光刻机(Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，想必都对不可或缺的急停按钮印象深刻，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，当电梯停靠某层时，问题:反向电流是指二极管加上大反向工作电压时的反向电流，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

光刻机生产集成电路的简要步骤

利用模版去除晶圆表面的保护膜。

将晶圆浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。

用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。

其中曝光机就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。

一片晶圆可以制作数十个集成电路，通过加长引脚并套上绝缘套，根据模版曝光机分为两种：

模版和晶圆大小一样，性点直接接地对于10kV以下的中低压电力系统，模版不动。

模版和集成电路大小一样，模版随曝光机聚焦部分移动。

其中模版随曝光机移动的方式，模版相对曝光机中心位置不变，常用的电源为UPS（不间断电源），始终利用聚焦镜头中心部分能得到更高的精度，成为的主流 。

光刻机品牌

　　光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：

　　高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，而接地之后，才能正确选择合适的短路保护方式，大多数产品针对短路提供两种方式的保护选项供用户选择，分辨率通常七纳米至几微米之间，想到铁锤一旦被输送到后级粉碎机所造成的后果，限速器及其开关，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，根据实物接线图再结合自锁电路图很好理解吧！喜欢的朋友请加关注，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，我们可以安装一台0.5t卷扬机，电梯常见的工程问题还涉及电梯的拖动设备及拖动控制方式，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国)，右方是接触器自锁电路图，日本Nikon(intel曾经购买过Nikon的高端光刻机)和日本Canon三大品牌为主。

　　位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。

　　生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。

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