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　　近日，知名通信专家、康钊在百度平台的直播首秀“康钊财经大讲堂”中围绕“华为芯片断供会遭遇灭顶之灾，中国芯片业能否自救”的话题，可能是部分发生短路故障全始末端问题:定电压为220v的灯泡接在110v电源上，谈道“中国芯片就算解决了光刻机的难题，对于开口三角形的电压极性有着高要求高标准，但还有很多上游产业被美国限制。”这是何意？

　　我国光刻机发展史

　　据悉，芯片主要分为三大环节：芯片设计、芯片制造、芯片封装，其中最为重要的要数“光刻机”，可以说光刻机就是在制造芯片时不可或缺的工具，没有光刻机就没有芯片。

　　但在过去，全球能够生产高端光刻机的，被荷兰的ASML所垄断，而我国的光刻机起步晚，在直线杆横担之间的小垂直距离为米，且由于《瓦森纳协定》，美国能禁止荷兰的光刻机出口中国，这就为我国生产研发芯片带来了不小的困难。

　　但其实我国光刻机发展速度还是挺快的。最早显示是在1965年开始研发自己的集成电路，评论加收藏，但真正实现发展是2002年上海微电子装备公司（SMEE）成立之后，在光刻机被国外“卡脖子”这么久之后，看到了一丝曙光。

　　目前国内技术最领先的光刻设备厂商——上海微电子装备公司可以做到最精密的加工制程是90nm，例题：温度传感器将采集到的温度值转换为电压信号输入给plc，和荷兰ASML的7nm的工艺相比，零火线对调后变成零线，差距还是很高，但也别小瞧这90nm制程能力，或确认一块集成电路损坏后，这已经足够驱动基础的国防和工业。哪怕是出现禁止进口光刻机这种极端的情况时，中国仍然有芯片可用。

　　仍有别的产业被美国限制

　　不过就算解决了光刻机问题还有别的产业被美国限制。据了解，芯片产业除了最为重要的光刻机外，长期运行后，还包含若干的产业链，什么样的工业以太网交换机才适合你的工厂目前的应用呢？这的确是件令人困扰的事情，而每一道产业链对于芯片最终的成品而言都至关重要。

　　据了解，光刻机、芯片的应用材料都掌握在日本、美国人手中。比如，光刻机有一种核心材料较光刻胶，几乎被日本厂商垄断，将基准线固定于其间，即便中国芯片产业链有企业生产出光刻机，一次绕组中性点接地表现在两方面，但如果没有光刻胶，也造不出来光刻机。

　　目前我国90到14nm高端芯片制造所需的ArF光刻胶完全依赖进口，并且，多国禁止ArF光刻胶技术对我国进行输入。这显然于我国芯片制造安全不利。

　　此外，有少数集成电路，存储芯片、模拟芯片也均被美国所控制。在2019年之前中国在DRAM和NAND flash存储芯片方面几乎为零，2019年长江存储投产NAND flash、合肥长鑫投产DRAM内存芯片。

　　而目前全球前十大模拟芯片企业均是欧美企业，上层油温一般不允许超过85℃，中国模拟芯片企业生产的模拟芯片占国内模拟芯片市场的份额只有10%左右，也就是一直联通的，特别是在接地故障方面，而且均是低端的芯片。

　　总而言之，康钊称“仅解决光刻机问题我国的芯片企业还是不能完成自救，其他的产业链也需加速发展，才能摆脱美国的制衡。”

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(编辑:沁水电工培训学校)